Pat

J-GLOBAL ID：200903030721415955

固体粒子落下を防止する流動層用分散盤

Inventor： 森崎 譲治 ,  蒲地 宏典 ,  山田 国博 ,  徳永 直毘 ,  内田 朝夫 ,  上田 宜孝
Applicant, Patent owner： 三井化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996341902
Publication number (International publication number)：1998180084
Application date： Dec. 20, 1996
Publication date： Jul. 07, 1998
Summary：

【要約】【課題】 高温下あるいは摩耗性の大きい固体粒子の、通気孔周辺での接触のためのエロージョンを防止し且つ、工業的に長期間安定した運転を行うことが出来る流動層用分散盤の提供。【解決手段】 流動層装置のガス分散盤で、多数のガス通気孔を有した分散盤の上部にキャップ及びまたはプレートを設け、キャップ及びまたはプレートの側面にガス噴出孔を有したガス分散盤において、通気孔がノズルで形成されており、ノズルの上部先端が分散盤の上部面より突き出した構造を有する、固体粒子落下を防止する流動層用分散盤。

Claim (excerpt)：

流動層装置のガス分散盤で、多数のガス通気孔を有した分散盤の上部にキャップ及びまたはプレートを設け、キャップ及びまたはプレートの側面にガス噴出孔を有したガス分散盤において、通気孔がノズルで形成されており、ノズルの上部先端が分散盤の上部面より突き出した構造を有する、固体粒子落下を防止する流動層用分散盤。

IPC (3)：

B01J 8/24 311 ,  B01J 8/44 ,  F23C 11/02 313

FI (3)：

B01J 8/24 311 ,  B01J 8/44 ,  F23C 11/02 313

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 流動層用分散板ノズル
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-115873   Applicant：石川島播磨重工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Fluidization Engineering, 1991, Second Edition, 95-97