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J-GLOBAL ID:200903030766128000
光学的情報記録用媒体
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 曉司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996264357
Publication number (International publication number):1998112028
Application date: Oct. 04, 1996
Publication date: Apr. 28, 1998
Summary:
【要約】【課題】 高密度記録が可能な光学的情報記録用媒体を提供する。【解決手段】 基板上に、少なくとも下部保護層、相変化型光記録層、上部保護層、反射層からなる多層構成を有し、該相変化型光記録層の組成がGey(SbxTe1ーx)1-y (ただし、0.60≦x≦0.85、0.01≦y≦0.20)で厚みが15nm以上30nm以下、該上部保護層の厚みが10nm以上30nm以下、該反射層がAu、Ag、またはAlを90原子%以上含む金属からなり厚みが50nm以上500nm以下であり、線速度1m/s以上7m/s以下において所定の記録方式によりマーク長変調記録及び消去を行う光学的情報記録用媒体。
Claim (excerpt):
基板上に、少なくとも下部保護層、相変化型光記録層、上部保護層、反射層からなる多層構成を有し、該相変化型光記録層の組成がGe<SB>y</SB>(Sb<SB>x</SB>Te<SB>1<HAN>ー</HAN>x</SB>)<SB>1-y</SB> (ただし、0.60≦x≦0.85、0.01≦y≦0.20)で厚みが15nm以上30nm以下、該上部保護層の厚みが10nm以上30nm以下、該反射層がAu、Ag、またはAlを90原子%以上含む金属からなり厚みが50nm以上500nm以下であり、線速度1m/s以上7m/s以下において、レーザーパワーをクロック周期Tに従って少なくとも3値の間で変調することでマーク長変調記録及び消去を行う光学的情報記録用媒体であって、マーク間部を形成する際には非晶質マーク部を100ナノ秒未満の照射で再結晶化させうる消去パワーPeを照射し、長さnT(nは2以上の整数)のマーク部を形成する際には、記録パワーPwを印加する期間をα<SB>1</SB>T、α<SB>2</SB>T、・・・、α<SB>m</SB>Tとし、かつバイアスパワーPbを印加する期間をβ<SB>1</SB>T、β<SB>2</SB>T、・・・、β<SB>m</SB>Tとして、レーザパワーのための印加期間を順次にα<SB>1</SB>T、β<SB>1</SB>T、α<SB>2</SB>T、β<SB>2</SB>T、・・・・、α<SB>m</SB>T、β<SB>m</SB>Tとしてレーザーパワーをm個のパルスに分割するとともに、2≦i≦m-1においてはα<SB>i</SB>≦β<SB>i</SB>とし、kを0から2までの整数から成るパラメータ、jを0から2までの実数からなるパラメータとし、かつ前記nの最小値をn<SB>min</SB>としてn<SB>min</SB>-k≧1、m=n-k、α<SB>1</SB>+β<SB>1</SB>+・・・・・+α<SB>m</SB>+β<SB>m</SB>=n-jとしたとき、Pw>Pe、0<Pb≦0.5Pe(ただし、β<SB>m</SB>Tにおいては0<Pb≦Peとなりうる)であることを特徴とする光学的情報記録用媒体。
IPC (3):
G11B 7/00
, B41M 5/26
, G11B 7/24 511
FI (4):
G11B 7/00 L
, G11B 7/00 F
, G11B 7/24 511
, B41M 5/26 X
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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光ディスク
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-301063
Applicant:日本電気株式会社
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特開平1-211249
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特開平1-303643
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光学的情報記録方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-318571
Applicant:三菱化学株式会社
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光学情報の記録方法および記録装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-059860
Applicant:松下電器産業株式会社
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情報記録媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-143963
Applicant:株式会社日立製作所, 日立マクセル株式会社
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