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J-GLOBAL ID：200903030770010642

パターン形成方法

Inventor： 鳥海 実
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997108574
Publication number (International publication number)：1998301293
Application date： Apr. 25, 1997
Publication date： Nov. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】劣化した光形状を回復して良好な微細パターン形成するパターン形成方法を提供する。【解決手段】薄膜が厚さ方向に不均一な濃度分布を有し、且つ、露光の光の波長において光退色する感光性組成物を用いる。

Claim (excerpt)：

感光性組成物からなる薄膜が厚さ方向に不均一な濃度分布を有し、且つ、露光の光の波長において光退色することにより露光の光強度を制御することを特徴とするパターン形成方法。

IPC (3)：

G03F 7/095 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/095 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 514 C