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J-GLOBAL ID：200903030782285841

照射硬化性組成物の重合に用いる水性酸素遮断組成物

Inventor： 園田 博文 ,  原 不二雄
Applicant, Patent owner： ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー
Agent (1)： 青山 葆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996218369
Publication number (International publication number)：1998088067
Application date： Aug. 20, 1996
Publication date： Apr. 07, 1998
Summary：

【要約】【課題】 照射硬化性組成物が埋め込み成形された酸腐蝕性基材に用いてもその基材を劣化させず、照射工程の後に研磨除去可能な、照射硬化性組成物の重合に用いる水性酸素遮断組成物を提供すること。【解決手段】 (a)50°C以下の最低成膜温度、40°C以上のガラス転移温度、厚さ500μmにおいて80%以上の光透過率及び1H〜3Hの鉛筆硬度を有する水分散性酸素遮断性樹脂100重量部;(b)ステアリン酸系又はラウリン酸系金属石鹸1〜100重量部;及び(c)水溶性界面活性剤1〜25重量部;を含有する照射硬化性組成物の重合に用いる水性酸素遮断組成物。

Claim (excerpt)：

(a)50°C以下の最低成膜温度、40°C以上のガラス転移温度、厚さ500μmにおいて波長470nmの光について80%以上の光透過率及び1H〜3Hの鉛筆硬度を有する水分散性酸素遮断性樹脂100重量部;(b)ステアリン酸系又はラウリン酸系金属石鹸1〜100重量部;及び(c)水溶性界面活性剤1〜25重量部;を含有する照射硬化性組成物の重合に用いる水性酸素遮断組成物。

IPC (9)：

C09D201/00 PDC ,  C08K 5/098 KAR ,  C08K 5/36 KBR ,  C08K 5/49 KBY ,  C08L 31/04 LHD ,  C08L 33/08 LHW ,  C09D 7/12 PSL ,  C09D131/04 PFT ,  C09D133/08 PGC

FI (9)：

C09D201/00 PDC ,  C08K 5/098 KAR ,  C08K 5/36 KBR ,  C08K 5/49 KBY ,  C08L 31/04 LHD ,  C08L 33/08 LHW ,  C09D 7/12 PSL ,  C09D131/04 PFT ,  C09D133/08 PGC