プラズマ処理用インピーダンス測定装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高橋隆二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998366984
Publication number (International publication number)：2000195698
Application date： Dec. 24, 1998
Publication date： Jul. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】チャンバー入口に直接に接続して、プラズマのインピーダンスを測定することにより、その信号の処理を行い、プラズマ状態の最適化、処理の安定性の改善が可能なプラズマ処理用インピーダンス測定装置。【解決手段】プラズマチャンバーと高周波電源の間に線路結合器を挿入し、その線路結合器により進行波と反射波電力の位相と振幅の信号をそれぞれ取り出し、この2信号から合成処理回路により反射係数の絶対値および位相を含む信号を抽出し、さらに進行波信号によりこれらの信号を基準化して、反射係数の絶対値×正弦信号と反射係数の絶対値×余弦信号とを得て、各々をA/D変換器を通してディジタル信号とし、これを処理してスミスチャート上に負荷チャンバーのインピーダンス表示またはアドミッタンス表示をする。

Claim (excerpt)：

高周波によるプラズマを発生させてプラズマ処理を行う装置において、プラズマ発生用チャンバーと、高周波電力を供給する高周波電源とを接続する伝送線路間に線路結合器を挿入し、該線路結合器により進行波電力および反射波電力の位相と振幅の情報をもった信号をそれぞれ取り出し、この2信号から高周波信号合成処理回路により反射係数の絶対値、反射係数の位相を含む信号を抽出して、さらに基準化回路を用いて進行波信号によりこれらの信号を基準化して、反射係数の絶対値×正弦信号と、反射係数の絶対値×余弦信号、および反射波信号を得て、各々をA/Dコンバータを通してディジタル信号とし、ディジタル信号処理を行ってスミスチャート上に負荷チャンバーのインピーダンス表示またはアドミタンス表示をするように構成したプラズマ処理用インピーダンス測定装置。

IPC (3)：

H05H 1/46 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (4)：

H05H 1/46 R , H05H 1/46 A , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

F-Term (9)：

5F004AA16 , 5F004BA04 , 5F004BB11 , 5F004BB13 , 5F004BB14 , 5F004BC08 , 5F004CB07 , 5F045AA08 , 5F045GB08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

特表平7-505973

Return to Previous Page