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J-GLOBAL ID：200903030825609522

ジアリールエテン系化合物及びこのジアリールエテン系化合物を用いた光記録媒体の光記録・再生法

Inventor： 藤野 泰光 ,  石川 篤 ,  椛澤 誠 ,  堀川 幸雄 ,  入江 正浩
Applicant, Patent owner： 鐘紡株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993338827
Publication number (International publication number)：1995173151
Application date： Dec. 01, 1993
Publication date： Jul. 11, 1995
Summary：

【要約】【構成】 下記一般式(1)にて示されるジアリールエテン系化合物。【化1】(但し、式中nは2〜5の整数、1,mは0〜2の整数、R1 ,R3 はアルキル基、R2 ,R4 は水素原子、アルキル基、ジアルキルアミン基、シアノ基、ニトロ基又はアルコキシ基、A,Bは芳香族基又は複素環基を表す。)並びに、上記一般式(1)にて示されるジアリールエテン系化合物を記録材料とする光記録媒体を用いて光記録・再生を行うに際し、再生時の光記録媒体温度を、記録時のそれより40°C以上低く設定することを特徴とするジアリールエテン系化合物を用いた光記録媒体の光記録・再生法。【効果】 熱安定性、着消色の繰り返し耐久性、半導体レーザー感受性、感度等に優れたフォトクロミック特性を有しており、可逆的光記録材料等、各種の用途に有効に用いることができる。また、再生時に記録の破壊を防止できる。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)にて示されるジアリールエテン系化合物。【化1】(但し、式中nは2〜5の整数、l,mは0〜2の整数、R1 ,R3 はアルキル基、R2 ,R4 は水素原子、アルキル基、ジアルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ基又はアルコキシ基、A,Bは芳香族基又は複素環基を表す。)

IPC (16)：

C07D333/36 ,  C07D333/12 ,  C07D333/16 ,  C07D333/18 ,  C07D333/24 ,  C07D333/32 ,  C07D333/38 ,  C07D333/42 ,  C07D409/06 213 ,  C07D409/06 215 ,  C07D417/06 333 ,  C07D495/04 101 ,  C09K 9/02 ,  G03C 5/56 511 ,  G11B 7/00 ,  G11B 7/24 516