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J-GLOBAL ID：200903030831912539

放射線感受性組成物用酸無水物含有ポリマーの新規な製造法

Inventor： ステファニー・ディロッカー ,  サンジェイ・マーリク ,  ビノード・デ ,  アショク・レディ
Applicant, Patent owner： アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド
Agent (3)： 高木 千嘉 ,  結田 純次 ,  三輪 昭次
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003578435
Publication number (International publication number)：2005520894
Application date： Feb. 27, 2003
Publication date： Jul. 14, 2005
Summary：

本発明の合成法は次の工程:エチレン性不飽和酸無水物モノマー、少なくとも1種のエチレン性不飽和酸非無水物モノマー、フリーラジカル開始剤および式1【化1】(式中、R1、R2、R3およびR4は独立して水素およびC1〜C4直鎖状または分枝状アルキルからなる群より選択されるが、R1、R2、R3およびR4のうち少なくとも1つはHではない)の一般構造を有するアルキル置換THF溶媒を含有する反応混合物を用意し;その反応混合物を重合し;そして未反応のモノマー、アルキル置換THF溶媒、および低沸点の揮発性反応生成物を蒸留により除去することからなる。

Claim (excerpt)：

溶媒として式1

IPC (4)：

C08F2/06 ,  C08F220/18 ,  C08F222/06 ,  C08F230/08

FI (4)：

C08F2/06 ,  C08F220/18 ,  C08F222/06 ,  C08F230/08

F-Term (21)：

4J011AA05 ,  4J011DA04 ,  4J011HA04 ,  4J011HB14 ,  4J011NA01 ,  4J100AK32P ,  4J100AL03R ,  4J100AL03S ,  4J100AL08S ,  4J100AP16Q ,  4J100BA72Q ,  4J100BA75S ,  4J100BC02S ,  4J100CA06 ,  4J100FA08 ,  4J100FA19 ,  4J100JA15 ,  4J100JA24 ,  4J100JA43 ,  4J100JA50 ,  4J100JA51

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭60-090205
  
• 放射線感受性コポリマー、そのフォトレジスト組成物およびその深UV二層システム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-525472   Applicant：アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド