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J-GLOBAL ID：200903030845615871

薄膜形成用マスク

Inventor： 並河 康訓 ,  谷口 秀樹 ,  井藤 恭典
Applicant, Patent owner： 株式会社村田製作所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994070758
Publication number (International publication number)：1995278784
Application date： Apr. 08, 1994
Publication date： Oct. 24, 1995
Summary：

【要約】【目的】スパッタ蒸着に使用するマスクの洗浄間隔(連続するスパッタ蒸着使用回数)が長く且つマスクの洗浄間隔のばらつきが小さいマスクを提供することにある。【構成】飛散源からの飛散粒子によりマスクを介して素体表面に所定パターンの被覆を形成するための薄膜形成用マスクにおいて、前記薄膜形成用マスクの表面を粗くしたことを特徴とする。また、マスクの表面の表面粗さ(Ra)は0.4μm以上であり、そして、マスクは金属またはゴム状弾性体からなることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

飛散源からの飛散粒子によりマスクを介して素体表面に所定パターンの被覆を形成するための薄膜形成用マスクにおいて、前記薄膜形成用マスクの表面を粗くしたことを特徴とする薄膜形成用マスク。