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J-GLOBAL ID：200903030846620909

ジスアゾ顔料の製造方法

Inventor： 城丸 修 ,  川崎 伸司
Applicant, Patent owner： 東洋インキ製造株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991191004
Publication number (International publication number)：1993009400
Application date： Jul. 05, 1991
Publication date： Jan. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 隠蔽力に優れたジスアゾ顔料の製造方法を提供する。【構成】 ベンジジン類のテトラゾ溶液とアセトアセトアニリド類を含むカップラー液とをカップリングさせたジスアゾ顔料スラリーを芳香族溶剤のエマルションで処理するジスアゾ顔料の製造方法において、カップリング終了後のあるいはカップリング終了後アルカリ領域に調整した顔料スラリーからスラリー中に含まれる水溶性不純物を除去した後リスラリーしたものを上記処理に供することを特徴とするジスアゾ顔料の製造方法。

Claim (excerpt)：

ベンジジン類のテトラゾ溶液とアセトアセトアニリド類を含むカップラー液とをカップリングさせたジスアゾ顔料スラリーを芳香族溶剤のエマルションで処理するジスアゾ顔料の製造方法において、カップリング終了後のあるいはカップリング終了後アルカリ領域に調整した顔料スラリーからスラリー中に含まれる水溶性不純物を除去した後リスラリーしたものを上記処理に供することを特徴とするジスアゾ顔料の製造方法。

IPC (4)：

C09B 67/20 ,  C09B 41/00 ,  C09B 67/10 ,  C09D 11/02 PTF

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭50-052124
  
• 特開昭50-052126