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J-GLOBAL ID：200903030869103685

感光性組成物、感光材料、レリーフパターンの製造法及びポリイミドパターンの製造法

Inventor： 小島 康則 ,  ▲廣▼ 昌彦 ,  鍛治 誠
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996348403
Publication number (International publication number)：1998186654
Application date： Dec. 26, 1996
Publication date： Jul. 14, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 優れた諸特性を示す感光性組成物、感光材料、レリーフパターンの製造法並びにポリイミドパターンの製造法を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)で表されるハイドロキノン化合物、下記一般式(II)で表されるチタノセン化合物及び付加重合性化合物を含有してなる感光性組成物、下記ハイドロキノン化合物、チタノセン化合物、ポリアミド酸、化学線により2量化又は重合可能な炭素-炭素二重結合とアミノ基又はその四級化塩の基とを有する化合物を含有してなる感光材料、前記感光性組成物又は前記感光材料の塗膜に活性光線をパターン状に照射し、未照射部を現像除去するレリーフパターンの製造法並びにこれを加熱するポリイミドパターンの製造法。例えばメチルハイドロキノン例えば、ビス(シクロペンタジエニル)-ビス[2,6-ジフルオロ-3-(2-(1H-ピロール-1-イル)エチル)フェニル]チタン

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)【化1】(式中、R1、R2、R3及びR4は各々独立に水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、フェニル基、ニトロ基、ハロゲン原子又は複素環を示す)で表されるハイドロキノン化合物、下記一般式(II)【化2】(式中、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13及びR14は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルコキシ基又は複素環を示す)で表されるチタノセン化合物及び常圧において100°C以上の沸点を有する付加重合性化合物を含有してなる感光性組成物。

IPC (11)：

G03F 7/028 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/008 ,  G03F 7/027 501 ,  G03F 7/027 504 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/037 501 ,  G03F 7/038 504 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/027

FI (11)：

G03F 7/028 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/008 ,  G03F 7/027 501 ,  G03F 7/027 504 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/037 501 ,  G03F 7/038 504 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/30 502 R