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J-GLOBAL ID：200903030872588231

基板端縁洗浄装置

Inventor： 酒井 由雄 ,  岡本 伊雄 ,  吉野 裕文
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992359058
Publication number (International publication number)：1994196401
Application date： Dec. 24, 1992
Publication date： Jul. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 溶剤による洗浄部と薄膜部との境界を移動させずに、かつ有効エリア内の膜厚の均一性を損なうことなく、溶剤のしみこみに起因する盛り上がりを効果的に無くす。【構成】 表面に薄膜が形成されるとともに基板保持手段で保持された角型基板1の端縁の表面側に、溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する第2の溶剤ノズル26bを設け、かつ、気体を吐出して溶解物を角型基板1の端縁よりも外方に吹き飛ばす第2のガスノズル27bを、角型基板1に対する第2の溶剤ノズル26bによる溶剤吐出位置よりも第2の溶剤ノズル26bの移動方向後方側に気体を吐出するように設け、角型基板1の端縁の薄膜を溶解除去する。

Claim (excerpt)：

表面に薄膜が形成された基板を保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、前記溶剤ノズルを前記基板の端縁に沿わせて相対的に移動する移動手段と、前記溶剤ノズルと一体的に移動可能に、かつ、前記基板に対する前記溶剤ノズルによる溶剤吐出位置よりも、前記溶剤ノズルの前記基板に対する相対移動方向後方側に気体を吐出するように設けられて、溶解物を前記基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルと、を備えた基板端縁洗浄装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/304 341 ,  H05K 3/26