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J-GLOBAL ID：200903030890581619

液晶表示装置の製造方法

Inventor： 西野 浩己 ,  山本 明弘
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 梅田 勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996330108
Publication number (International publication number)：1998170951
Application date： Dec. 11, 1996
Publication date： Jun. 26, 1998
Summary：

【要約】【課題】 無機絶縁膜の成膜後、マスクを用いて無機絶縁膜にコンタクトホールを形成し、さらにマスクを用いて層間絶縁膜にもコンタクトホールを形成するため、無機絶縁膜の無い構造に比べ、プロセスが増え、コストアップになっていた。また、この2つのコンタクトホール形成に、異なるフォトマスクを用いるため、マスクの重合せ精度、パターン寸法のシフト量等の関係から、無機絶縁膜のコンタクトホールのエッジ部が層間絶縁膜のコンタクトホールの内側に入込んでしまい、画素電極の断切れによる点欠陥が多発するという問題点があった。【解決手段】 コンタクトホールDが形成された層間絶縁膜9をマスクとして、無機絶縁膜8をエッチングして、コンタクトホールDを透明導電膜17bまで形成する。このセルフアライメントにより、コンタクトホールDがずれることが無く、コンタクトホールDで画素電極10の断切れによる点欠陥が防止できる。

Claim (excerpt)：

基板上に、ゲート配線およびソース配線がマトリクス状に形成され、該ゲート配線およびソース配線で囲まれた領域にそれぞれスイッチング素子が形成され、該スイッチング素子の上部に層間絶縁膜が形成され、該層間絶縁膜上に形成された画素電極が該層間絶縁膜を貫くコンタクトホールを介して、前記スイッチング素子のドレイン電極と接続される液晶表示装置の製造方法において、前記スイッチング素子の上に無機絶縁膜を形成する工程と、前記無機絶縁膜の上に前記層間絶縁膜を形成した後、パターニングすると共に、前記層間絶縁膜を貫くコンタクトホールを形成する工程と、前記層間絶縁膜をマスクとして、前記無機絶縁膜をエッチングし、パターニングする工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• アクティブマトリクス基板
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-347349   Applicant：ソニー株式会社
• 表示装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-185640   Applicant：株式会社半導体エネルギー研究所