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J-GLOBAL ID：200903030896587066
プラズマ装置における高周波給電装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
佐々木 聖孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992237786
Publication number (International publication number)：1994068839
Application date： Aug. 13, 1992
Publication date： Mar. 11, 1994
Summary：
【要約】[目的]プラズマを発生させるための高周波を高周波電源より効率良くプラズマ装置に給電し、消費電力の節約化と加工精度の向上を実現する。[構成]真空容器からなる処理室10内に、平行平板型の上部電極12および下部電極14が所定の間隔を置いて平行に配置される。下部電極14には、高周波電源16より通常13.56MHzの高周波電圧がマッチング・ボックス18および給電管20を介して印加される。給電管20は、銀、銅、金、アルミニウムまたはそれらの化合物からなる中空管、あるいはそれらの導電材をメッキ等で被覆してなる中空管で構成される。給電管20の管内には、被処理体Wを静電吸着するための静電チャックシート36に直流電圧を給電するための電気ケーブル40が通されている。
Claim (excerpt)：
プラズマ装置の処理容器内にプラズマを発生させるための高周波電圧を高周波電源より給電手段を介して所定の電極に供給するようにした高周波給電装置において、前記給電手段を銀、銅、金、アルミニウムまたはそれらの化合物からなる中空管で構成したことを特徴とする高周波給電装置。
IPC (5)：
H01J 37/32
, C23C 14/40
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/302
