金属酸化物膜の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：間宮武雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999050110
Publication number (International publication number)：2000247608
Application date： Feb. 26, 1999
Publication date： Sep. 12, 2000
Summary：

【要約】【課題】高温での加熱処理が不要で、かつ、膜厚の比較的大きい結晶化された金属酸化物の薄膜を、従来に比べて格段に短い時間で形成できる方法を提供する。【手段】金属アルコキシドを主原料として得られる金属酸化物の前駆体ゾルを被塗布物の表面に塗布して被塗布物表面に金属酸化物ゲルの薄膜を形成する工程と、金属酸化物ゲルの薄膜に対して波長が360nm以下である紫外光を照射して金属酸化物ゲルを結晶化させる工程とを複数回繰り返して行う。

Claim (excerpt)：

金属アルコキシドまたは金属塩を主原料として得られる金属酸化物の前駆体ゾルを被塗布物の表面に塗布して、被塗布物表面に金属酸化物ゲルの薄膜を形成するゲル膜形成工程と、前記金属酸化物ゲルの薄膜に対して波長が360nm以下である紫外光を照射し、薄膜を形成している金属酸化物ゲルを結晶化させるゲル結晶化工程とを含む金属酸化物膜の製造方法において、1つの被塗布物の表面に対し前記ゲル膜形成工程と前記ゲル結晶化工程とを複数回繰り返して行うことを特徴とする金属酸化物膜の製造方法。

IPC (12)：

C01B 13/14 , C01B 13/32 , C01G 3/00 , C01G 19/02 , C01G 23/00 , C01G 23/047 , C01G 25/02 , C01G 30/00 , C01G 45/00 , C23C 26/00 , C23C 18/12 , C23C 20/08

FI (12)：

C01B 13/14 Z , C01B 13/32 , C01G 3/00 , C01G 19/02 C , C01G 23/00 C , C01G 23/047 , C01G 25/02 , C01G 30/00 , C01G 45/00 , C23C 26/00 E , C23C 18/12 , C23C 20/08

F-Term (70)：

4G042DA01 , 4G042DA02 , 4G042DB11 , 4G042DB15 , 4G042DB27 , 4G042DC01 , 4G042DC03 , 4G042DD02 , 4G042DE04 , 4G042DE09 , 4G042DE14 , 4G047CA02 , 4G047CA05 , 4G047CA07 , 4G047CA08 , 4G047CB06 , 4G047CC02 , 4G047CC03 , 4G047CD02 , 4G048AA02 , 4G048AA05 , 4G048AB02 , 4G048AC02 , 4G048AC04 , 4G048AC08 , 4G048AD02 , 4G048AE06 , 4G048AE08 , 4K022AA01 , 4K022AA02 , 4K022AA03 , 4K022AA04 , 4K022AA05 , 4K022BA02 , 4K022BA04 , 4K022BA06 , 4K022BA07 , 4K022BA08 , 4K022BA10 , 4K022BA11 , 4K022BA12 , 4K022BA14 , 4K022BA15 , 4K022BA17 , 4K022BA20 , 4K022BA22 , 4K022BA23 , 4K022BA24 , 4K022BA25 , 4K022BA26 , 4K022BA27 , 4K022BA28 , 4K022BA33 , 4K022DA08 , 4K022DB04 , 4K022DB06 , 4K022DB07 , 4K044AA01 , 4K044AA11 , 4K044AA12 , 4K044AA13 , 4K044AA16 , 4K044BA12 , 4K044BA13 , 4K044BA14 , 4K044BA15 , 4K044BB01 , 4K044BC14 , 4K044CA41 , 4K044CA53

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