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J-GLOBAL ID：200903030931373872
非線形光学材料及びその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
吉田 勝広
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992056476
Publication number (International publication number)：1993224261
Application date： Feb. 10, 1992
Publication date： Sep. 03, 1993
Summary：
【要約】【目的】 より大きな非線形性を有し、且つ、高い量子収率が得られる非線形光学材料及びその製造方法を提供すること。【構成】 シリコン核の表面に酸化シリコン主体の絶縁層を有する超微粒子が設けられていることを特徴とする非線形光学材料及びその製造方法。
Claim (excerpt)：
シリコン核の表面に酸化シリコン主体の絶縁層を有する超微粒子が設けられていることを特徴とする非線形光学材料。
Patent cited by the Patent：
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