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J-GLOBAL ID：200903030958403277

浄水の高度処理方法及び装置

Inventor： 大熊 直紀 ,  大西 真人 ,  宮森 啓子 ,  奥野 裕
Applicant, Patent owner： 日立プラント建設株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993036048
Publication number (International publication number)：1994226294
Application date： Feb. 01, 1993
Publication date： Aug. 16, 1994
Summary：

【要約】【目的】 カビ臭物質、アンモニア、トリハロメタン前駆物質、トリハロメタンなど、従来除去困難であった物質を含まない良質の上水を得る方法及び該方法を実施するコンパクトな高度処理装置を提供すること。【構成】 粉末活性炭注入設備2とオゾン化空気導入管3を備えた生物反応槽5を膜分離装置6の前段に設けたことを特徴とする浄水の高度処理装置であり、この装置においてオゾン化空気を間欠的に導入する。

Claim (excerpt)：

粉末活性炭注入設備とオゾン化空気導入管を備えた生物反応槽を膜分離装置の前段に設けたことを特徴とする浄水の高度処理装置。

IPC (3)：

C02F 9/00 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/12 ZAB