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J-GLOBAL ID:200903030962361589
有機トランジスタの製造方法、及び有機EL表示装置の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
福井 豊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003090940
Publication number (International publication number):2004297011
Application date: Mar. 28, 2003
Publication date: Oct. 21, 2004
Summary:
【課題】インクジェット印刷により材料を塗布する有機トランジスタの製造方法において、パターン形成の精度を向上し、特性ばらつきの小さい有機トランジスタを形成できる製造方法、及び、発光ばらつきの小さい有機EL表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、塗布対象面の所定位置に電荷を付与するとともに前記電荷と反対極性の電荷を塗布材料に付与してクーロン力により前記電荷を付与した材料を前記所定位置に導く方法、塗布対象面の所定位置に凹部を形成して塗布材料を塗布して前記凹部に堆積する方法、または、材料塗布後に溶媒を蒸発させてパターンを形成した後に当該パターンにレーザを照射して成形する方法を適宜組み合わせて有機トランジスタを作製する。このようにすれば、各駆動用有機トランジスタの駆動電流のばらつきを小さくできるため、発光強度ばらつきの小さいアクティブマトリクス型有機EL表示装置を作製することができる。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
電極、半導体層または絶縁層のうち少なくとも1つの材料を塗布することによって特定のパターンを形成する有機トランジスタの製造方法において、
塗布対象面の所定位置に電荷を付与するステップと、
インクジェット印刷により前記材料を塗布するステップと、
前記電荷と反対極性の電荷を前記材料に付与するステップと、
クーロン力により前記電荷を付与した材料を前記所定位置に導かせて特定のパターンを形成するステップと、
を有することを特徴とする有機トランジスタの製造方法。
IPC (7):
H01L29/786
, H01L21/28
, H01L21/288
, H01L21/336
, H01L51/00
, H05B33/10
, H05B33/14
FI (9):
H01L29/78 618B
, H01L21/28 A
, H01L21/288 Z
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H01L29/78 627C
, H01L29/78 616K
, H01L29/78 618A
, H01L29/28
F-Term (38):
3K007AB17
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4M104AA09
, 4M104AA10
, 4M104BB02
, 4M104BB09
, 4M104BB36
, 4M104CC05
, 4M104DD02
, 4M104DD22
, 4M104DD51
, 4M104DD61
, 4M104GG08
, 4M104HH14
, 5F110AA16
, 5F110BB01
, 5F110CC03
, 5F110CC05
, 5F110DD01
, 5F110DD02
, 5F110EE01
, 5F110EE03
, 5F110EE42
, 5F110FF01
, 5F110FF27
, 5F110FF36
, 5F110GG05
, 5F110GG42
, 5F110GG58
, 5F110HK01
, 5F110HK02
, 5F110HK03
, 5F110HK32
, 5F110NN72
, 5F110QQ01
, 5F110QQ19
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