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J-GLOBAL ID：200903031003397651

キノフタロン系スルホン酸誘導体及びそれを含有する顔料分散物

Inventor： 加野 仁紀 ,  伊藤 和典 ,  淀 貴明
Applicant, Patent owner： サカタインクス株式会社
Agent (1)： 安富 康男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001382998
Publication number (International publication number)：2003183533
Application date： Dec. 17, 2001
Publication date： Jul. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】 キノフタロン系顔料を微細かつ安定的に分散させることができる化合物を提供し、更にはその化合物を用いて、キノフタロン系顔料を微細かつ安定的に分散させることにより、高い発色性と良好な流動性等を有する顔料分散物を提供する。【解決手段】 遊離酸の形態で表したときに、下記式(1)に相当する構造となることを特徴とするキノフタロン系スルホン酸誘導体。【化1】式中、R1及びR2は互いに独立に、それぞれ、炭化水素基若しくは炭化水素基以外の基で置換されていてもよい炭素数20以下の脂肪族又は芳香族炭化水素の基を表すか、又は、両者が結合し、更にR1及び/又はR2の中に窒素、酸素及び硫黄から選ばれるヘテロ原子を含んでもよい複素環構造を表す。Xは、水素原子又はハロゲン原子を表す。kは、1〜6の整数、mは、0.5以上、そしてnは、0以上の数を表し、m+nは、1以上である。

Claim (excerpt)：

遊離酸の形態で表したときに、下記式(1)に相当する構造となることを特徴とするキノフタロン系スルホン酸誘導体。【化1】式中、R1及びR2は互いに独立に、それぞれ、炭化水素基若しくは炭化水素基以外の基で置換されていてもよい炭素数20以下の脂肪族又は芳香族炭化水素の基を表すか、又は、両者が結合し、更にR1及び/又はR2の中に窒素、酸素及び硫黄から選ばれるヘテロ原子を含んでもよい複素環構造を表す。Xは、水素原子又はハロゲン原子を表す。kは、1〜6の整数、mは、0.5以上、そしてnは、0以上の数を表し、m+nは、1以上である。

IPC (2)：

C09B 25/00 ,  C09B 67/46

FI (2)：

C09B 25/00 B ,  C09B 67/46 A