Pat
J-GLOBAL ID:200903031012989022

接地方法およびフォトマスクブランクス

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 金山 聡
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997330838
Publication number (International publication number):1999149152
Application date: Nov. 17, 1997
Publication date: Jun. 02, 1999
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 電子線露光描画装置を用いた電子線露光描画において、電子線によるフォトマスクブランクス上の電子の滞留を確実に防止でき、作製するフォトマスクの外観品質を阻害せず、且つ描画以降の処理工程で使用する装置での汚染を引き起こすことのない接地方法とそれに用いられるフォトマスクブランクスを提供する。【解決手段】 電子線露光描画装置における、電子線の照射によるフォトマスクブランクス100上の電子の滞留を防止するための接地方法であって、遮光層120が設けられた表面と対向する裏面、および端面に導電性の金属層130,135を設け、且つ、端面の導電性の金属層を介して、裏面の導電性の金属層と遮光層とが電気的に接続されているフォトマスクブランクスを用い、フォトマスクブランクスの裏面の導電性の金属層を介して、遮光層と露光描画装置の接地ライン170とを電気的に接続させる。
Claim (excerpt):
電子線に感光性のレジストがフォトマスクの絵柄を形成するための遮光層上に塗布されたフォトマスクブランクスを、XY移動ステージに保持し、制御された電子線を照射して露光描画を行う電子線露光描画装置における、電子線の照射によるフォトマスクブランクス上の電子の滞留を防止するための接地方法であって、前記遮光層が設けられた表面と対向する裏面、および端面に導電性の金属層を設け、且つ、端面の導電性の金属層を介して、裏面の導電性の金属層と前記遮光層とが電気的に接続されているフォトマスクブランクスを用い、該フォトマスクブランクスの裏面の導電性の金属層を介して、遮光層と露光描画装置の接地ラインとを電気的に接続させることを特徴とする接地方法。
IPC (3):
G03F 1/08 ,  G03F 1/14 ,  H01L 21/027
FI (3):
G03F 1/08 C ,  G03F 1/14 G ,  H01L 21/30 541 Z

Return to Previous Page