Pat

J-GLOBAL ID：200903031015801989

露光用マスク及びその製造方法

Inventor： 北村 芳隆
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 岡本 啓三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993278659
Publication number (International publication number)：1995134396
Application date： Nov. 08, 1993
Publication date： May. 23, 1995
Summary：

【要約】【目的】位相シフタと半透光性膜とを組み合わせた露光用マスク及びその製造方法に関し、容易に作成することができ、また、チップ領域の境界で生じていた多重露光による欠陥を抑止することが可能なハーフトーンマスクを提供する。【構成】透明基板11上の遮光領域に位相シフタを兼ねた半透光性膜としてのタンタル酸化膜14が形成されたことを含む。

Claim (excerpt)：

透明基板上の遮光領域に位相シフタを兼ねた半透光性膜としてのタンタル酸化膜が形成された露光用マスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 528