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J-GLOBAL ID:200903031060952505
大粒子径シリカの製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
萩野 平 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993267346
Publication number (International publication number):1995126009
Application date: Oct. 26, 1993
Publication date: May. 16, 1995
Summary:
【要約】【目的】 平均粒子径が30nm以上と比較的大きく、30〜500nmの範囲の大粒子径シリカを簡単な工程で、短時間に安価に製造する。【構成】 アルカリ金属ケイ酸塩と酸との反応を2段階に分けて行うシリカの製造方法において、第1段階の中和反応を低い温度で行った後、第2段階の中和反応を第1段階における温度よりも高い温度で行うことを特徴とする大粒子径シリカの製造方法。その際、第1段階の中和反応における酸の添加を第1段階の中和反応終了時のpHが10.0〜11.5となるように制御する。
Claim (excerpt):
アルカリ金属ケイ酸塩溶液と酸との中和反応を2段階に分けて行うシリカの製造方法において、第1段階の中和反応を相対的に低い温度で行った後、第2段階の中和反応を第1段階における温度よりも高い温度で行うことを特徴とする大粒子径シリカの製造方法。
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