Pat

J-GLOBAL ID：200903031084461553

フェノチアジン類の製造法

Inventor： 萱野 高志 ,  井上 尊之
Applicant, Patent owner： 川口化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993329529
Publication number (International publication number)：1995138243
Application date： Nov. 19, 1993
Publication date： May. 30, 1995
Summary：

【要約】【目的】 フェノチアジン類の製造法を提供する。【構成】 ジフェニルアミン類と硫黄を反応させフェノチアジン類を製造する際、触媒としてヘテロポリ酸を使用する事により従来の製造法に比較し廃水も出ず且つ製造工程も簡略化できる。

Claim (excerpt)：

下記一般式(化1)【化1】(但し、式中R1及びR2は同一であっても異なっていても良く、各々水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜18のアルキル基、又はアラルキル基を示す。m及びnは1〜4の整数を示し、又各フェニル基のオルソ位は少なくとも一方が置換されていないフェニル基を示す)で示されるジフェニルアミン類と硫黄を触媒の存在下に反応させて、一般式(化2)【化2】(但し式中、R1、R2、m、nは上記と同じ意味を示す)で示されるフェノチアジン類を製造する際、触媒としてヘテロポリ酸を用いる事を特徴とするフェノチアジン類の製造法。

IPC (5)：

C07D279/20 ,  B01J 23/28 ,  B01J 23/30 ,  B01J 27/186 ,  C07B 61/00 300