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J-GLOBAL ID:200903031094630205

水没式赤水・水苔発生抑制装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山田 稔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996079253
Publication number (International publication number):1997267094
Application date: Apr. 01, 1996
Publication date: Oct. 14, 1997
Summary:
【要約】【課題】 循環ポンプを用いることなく、貯水槽内においてシート状半導体表面に接触する水を絶え間なく換えることにより、赤水又は水苔の発生を有効的に防止できる赤水・水苔発生抑制装置を提供することにある。【解決手段】 水没式赤水・水苔発生抑制装置100は、面状基材上に半導体セラミックス被膜を溶射して成る3枚の触媒プレート部材1を垂直回転軸2の周りに攪拌羽根として持つ回転羽根車10と、この回転羽根車10を回転可能に支承する固定枠構造体20と、回転枠構造体10を極低速で回動駆動する水中モータ30とを有している。本装置を貯水層の中に沈めて槽底に据え置き、水中モータ31に給電して垂直回転軸2をゆっくり回転させる。3枚の触媒プレート部材1の表裏面に曝される水が新たな水に緩やか且つ連続的に入れ替わるようになっているので、水の被曝割合が空間的且つ時間的に旺盛化する。槽内総水量の大部分を触媒プレート面に被曝せしめることができ、赤水(赤錆)又は水苔の発生抑制の効果が顕著化する。
Claim (excerpt):
面状基材上に半導体セラミックス被膜を具備する触媒プレート部材を回転軸の周りに攪拌羽根として持つ回転羽根車と、この回転羽根車を回転可能に支承する固定枠構造体と、前記回転羽根車を低速で回動駆動する駆動手段とを備えて成ることを特徴とする水没式赤水・水苔発生抑制装置。
IPC (5):
C02F 1/70 ZAB ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/00 ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/72
FI (5):
C02F 1/70 ZAB Z ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/00 U ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/72 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平4-305290
  • 特開昭51-109572

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