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J-GLOBAL ID：200903031105121456

有機オニウム塩の製造方法

Inventor： 宇恵 誠 ,  竹原 雅裕 ,  大浦 靖
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998128520
Publication number (International publication number)：1999322760
Application date： May. 12, 1998
Publication date： Nov. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 高純度の有機オニウムQMFn 塩を再結晶の操作なしに高収率で得る方法の提供。【解決手段】 一般式NH4 MFn (Mは周期表4〜16族の元素を表し、nは4族のとき3又は4、5族のとき4、6族のとき4、6又は7、7族のとき3又は5、8族のとき3又は4、9族のとき3又は5、10族のとき3、11族のとき3、12族のとき3、13族のとき4又は6、14族のとき5、15族のとき4又は6、また、16族のとき5である)で表される塩と一般式QRCO3 (Qは有機オニウムを表し、Rは水素原子又は炭素数10以下のアルキル基を表す)で表される塩とを溶液中で反応させることを特徴とする一般式QMFn (Q及びMは前記式と同義である)で表される有機オニウム塩の製造方法。

Claim (excerpt)：

一般式NH4 MFn (Mは周期表4〜16族の元素を表し、nは4族のとき3又は4、5族のとき4、6族のとき4、6又は7、7族のとき3又は5、8族のとき3又は4、9族のとき3又は5、10族のとき3、11族のとき3、12族のとき3、13族のとき4又は6、14族のとき5、15族のとき4又は6、また、16族のとき5である)で表される塩と一般式QRCO3(Qは有機オニウムを表し、Rは水素原子又は炭素数10以下のアルキル基を表す)で表される塩とを溶液中で反応させることを特徴とする一般式QMFn (Q及びMは前記式と同義である)で表される有機オニウム塩の製造方法。

IPC (4)：

C07F 5/02 ,  C07F 9/14 ,  C07F 9/68 ,  C07F 9/90

FI (4)：

C07F 5/02 B ,  C07F 9/14 ,  C07F 9/68 ,  C07F 9/90