位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西山恵三 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999004069
Publication number (International publication number)：2000206279
Application date： Jan. 11, 1999
Publication date： Jul. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】ステージの移動に伴って発生する並進方向および回転方向の反力を質量体の移動によって軽減する。【解決手段】本発明の位置決め装置は、基準面に沿って移動可能なステージと、ステージを駆動するステージ駆動機構と、ステージベースまたは構造物に対して移動可能な質量体と質量体を駆動する質量体駆動機構を備え該ステージベースまたは該構造物に対して慣性力を付与する慣性力付与機構とを有し、該慣性力付与機構は、ステージの移動に伴って発生する反力を軽減するための信号を質量体駆動機構に出力する反力補償制御系と、質量体の位置を補償するための信号を質量体駆動機構に出力する位置補償制御系とを有することを特徴とし、反力補償制御系によって、反力を軽減し、位置補償制御系によって質量体の位置ずれを補償することができる。

Claim (excerpt)：

基準面を有するステージベースと、該ステージベースおよび該ステージベースと一体の構造物を支持する除振機構と、該基準面に沿って移動可能なステージと、該ステージベースまたは該構造物に対して移動可能な質量体と該質量体を駆動する質量体駆動機構を備え、該ステージベースまたは該構造物に対して慣性力を付与する慣性力付与機構とを有し、該慣性力付与機構は、該ステージの移動に伴って発生する反力を軽減するための信号を該質量体駆動機構に出力する反力補償制御系と、該質量体の位置を補償するための信号を該質量体駆動機構に出力する位置補償制御系とを有することを特徴とする位置決め装置。

IPC (3)：

G12B 5/00 , B23Q 1/25 , H01L 21/027

FI (3)：

G12B 5/00 T , H01L 21/30 503 B , B23Q 1/14 B

F-Term (18)：

2F078CA02 , 2F078CA08 , 2F078CB13 , 2F078CC03 , 2F078CC11 , 3C048BB12 , 3C048DD06 , 3C048DD26 , 5F046AA23 , 5F046CC01 , 5F046CC04 , 5F046CC16 , 5F046CC18 , 5F046DA07 , 5F046DA14 , 5F046DB05 , 5F046DB14 , 5F046DC10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平2-307091
特開平3-021894
ステージ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-289109 Applicant：株式会社ニコン

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