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J-GLOBAL ID：200903031131583123

光閉込め構造及びそれを用いた受光素子

Inventor： 上松 強志 ,  蕨迫 光紀 ,  大塚 寛之 ,  永田 寧
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 薄田 利幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993029092
Publication number (International publication number)：1994244444
Application date： Feb. 18, 1993
Publication date： Sep. 02, 1994
Summary：

【要約】【目的】表面反射を低減し、光閉じ込めを有効に行なうことができる光閉込め構造を提供すること。【構成】基板3の表面に、凹凸を有する遷移層2を設け、この凹凸の繰り返し幅7を光閉じ込めを行なう主な光4の波長以下とする。基板3の裏面に凹凸8、9を設けることが好ましい。遷移層2の屈折率は、基板側と逆の側から基板側に向かって、基板の屈折率に近づくように変化させる。

Claim (excerpt)：

基板及び該基板表面に設けられた、凹凸を有する遷移層からなり、該凹凸の繰り返し幅は、光閉じ込めを行なう主な光の波長以下であることを特徴とする光閉込め構造。

IPC (3)：

H01L 31/04 ,  G02B 5/00 ,  H01L 31/10

FI (2)：

H01L 31/04 F ,  H01L 31/10 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭61-069178
  
• 特公昭48-032946
  
• 特開平2-058876