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J-GLOBAL ID:200903031146937096
活性炭およびその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
三枝 英二 (外8名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002001172
Publication number (International publication number):2003206121
Application date: Jan. 08, 2002
Publication date: Jul. 22, 2003
Summary:
【要約】【課題】 光学的異方性組織を有する活性炭原料を用いて、高比表面積の活性炭を簡単、且つ安価に製造する方法を提供する。【解決手段】 光学的異方性組織を50%以上有する活性炭原料を、酸素含量が15〜35重量%となるように酸素架橋重合により安定化処理し、次いで賦活処理する活性炭の製造方法;および該方法で得られる、BET法における比表面積が1000m2/g以上で、平均細孔半径が0.8〜1.5nmで、細孔容積が0.8ml/g以上で、且つ真比重が1.9以上である活性炭。
Claim (excerpt):
光学的異方性組織を50%以上有する活性炭原料を、酸素含量が15〜35重量%となるように酸素架橋重合により安定化処理し、次いで賦活処理する活性炭の製造方法。
IPC (2):
FI (2):
C01B 31/12
, H01G 9/00 301 A
F-Term (5):
4G046HA06
, 4G046HA07
, 4G046HB05
, 4G046HC04
, 4G046HC05
Patent cited by the Patent: