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J-GLOBAL ID:200903031178418171
ブラックストライプ形成用塗布液とそれを用いたブラックストライプ及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
志賀 正武 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001152906
Publication number (International publication number):2002352709
Application date: May. 22, 2001
Publication date: Dec. 06, 2002
Summary:
【要約】【課題】 単位膜厚当たりの光学濃度(OD)値が高く、従来よりも薄い膜厚で所定のOD値を得ることができると共に、低反射性をも兼ね備えた光学特性に優れたブラックストライプを安価に形成することのできるブラックストライプ形成用塗布液、このブラックストライプ形成用塗布液を用いて形成されたパターン化されたブラックストライプ、パターン化されたブラックストライプを非常に簡易な工程で、しかも安全かつ低コストで作製することができるブラックストライプの製造方法を提供する。【解決手段】 本発明のブラックストライプ形成用塗布液は、Mn化合物、Cu化合物、Fe化合物、SiO2および有機溶剤を少なくとも含有することを特徴とする。
Claim (excerpt):
Mn化合物、Cu化合物、Fe化合物、SiO2および有機溶剤を少なくとも含有することを特徴とするブラックストライプ形成用塗布液。
IPC (6):
H01J 9/227
, C03C 17/25
, G02B 1/10
, G02B 5/00
, G02B 5/20 101
, H01J 11/02
FI (6):
H01J 9/227 E
, C03C 17/25 A
, G02B 5/00 B
, G02B 5/20 101
, H01J 11/02 B
, G02B 1/10 Z
F-Term (33):
2H042AA09
, 2H042AA15
, 2H042AA26
, 2H048BA11
, 2H048BA45
, 2H048BA47
, 2H048BA48
, 2H048BB01
, 2K009CC03
, 2K009CC42
, 2K009DD02
, 2K009EE01
, 4G059AA08
, 4G059AB01
, 4G059AB05
, 4G059AC08
, 4G059EA01
, 4G059EA05
, 4G059EB05
, 5C028FF11
, 5C028FF12
, 5C028FF16
, 5C040FA01
, 5C040FA02
, 5C040GH02
, 5C040GH03
, 5C040JA15
, 5C040KA16
, 5C040KA17
, 5C040MA04
, 5C040MA23
, 5C040MA24
, 5C040MA26
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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薄型平面表示装置とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-303751
Applicant:富士通株式会社
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特開昭55-046410
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