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J-GLOBAL ID：200903031199382711

半導体製造用エアフイルタ装置

Inventor： 守谷 修司 ,  若林 剛
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993086046
Publication number (International publication number)：1994302487
Application date： Apr. 13, 1993
Publication date： Oct. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 有機系不純物によるクリーンルーム内および半導体処理装置の汚染を防止することができるエアフイルタ装置することを目的とする。【構成】 半導体製造用エアフイルタ装置は、熱処理装置等の空気循環路に設置するエアフイルタ装置24を、フイルタ枠33をアルミニウム等の金属によって形成するとともに、エアフイルタ34を、ステンレス等の金属繊維を焼結してシート状に形成し、フイルタ枠33にロー付けによって固定したことにある。

Claim (excerpt)：

フイルタ枠と、このフイルタ枠に固定されたエアフイルタとからなる半導体製造用エアフイルタ装置において、前記フイルタ枠を金属によって形成するとともに、前記エアフイルタを、金属繊維を焼結してシート状に形成し、前記フイルタ枠に装着したことを特徴とする半導体製造用エアフイルタ装置。

IPC (3)：

H01L 21/02 ,  B01D 39/20 ,  F24F 7/06