Pat

J-GLOBAL ID：200903031226342212

不活性保護基を有するPHSを含有するネガティブ・レジスト

Inventor： グレゴリー・ブレイタ ,  ウィリアム・アール・ブルンスヴォルド ,  ウィリアム・イー・コンリー・ジュニア ,  キャスリーン・エム・コーネット ,  マハムード・エム・ホジステ
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 坂口 博 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997165650
Publication number (International publication number)：1998062994
Application date： Jun. 23, 1997
Publication date： Mar. 06, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 0.263NのTMAHをはじめ、従来より広範囲の現像液濃度に適合し、比較的広範囲の焦点深度、線量などの処理条件下で、シャープに合焦した像を形成できるネガティブ・レジスト提供。【解決手段】 -OHサイトをレジスト皮膜の安定性を保護するのに有効な比率で酸に不安定でない-OR基に変換したポリヒドロキシスチレを含む重合体樹脂からなる、ネガティブ・レジスト。

Claim (excerpt)：

-OHサイトが、苛酷な現像条件でレジスト皮膜の安定性を保護するのに有効な比率で、酸に不安定でない-OR基に変換されたポリヒドロキシスチレンを含む重合体樹脂からなる、ネガティブ・トーンのレジスト皮膜の基材として使用するのに適した組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R