高周波加熱装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：滝本智之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996113447
Publication number (International publication number)：1997306663
Application date： May. 08, 1996
Publication date： Nov. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】本発明は高周波加熱装置に関するもので、被加熱物を均一に加熱したり、局所的に加熱したり、複数の被加熱物の中で選択して加熱したり、簡単な構成で精度よくねらった加熱分布を得ることを目的とする。【解決手段】加熱室1内に電磁波3を放射して被加熱物2を加熱する放射アンテナ4を有し、制御手段5で駆動手段6により放射アンテナ4の位置を制御するものので、被加熱物2を所望の仕上がり状態にすることができる。

Claim (excerpt)：

被加熱物の仕上がり状態を所望の状態にするために、加熱室内の移動自在の放射アンテナを所望の仕上がり状態が得られる位置にくるように制御することを特徴とする高周波加熱装置。

IPC (2)：

H05B 6/72 , F24C 7/02 511

FI (2)：

H05B 6/72 B , F24C 7/02 511 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

高周波加熱調理器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-306031 Applicant：シヤープ株式会社
特開昭62-005594
電子レンジ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-127291 Applicant：株式会社東芝, 東芝エー・ブイ・イー株式会社

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