Pat

J-GLOBAL ID：200903031263523227

レジスト送液装置

Inventor： 酒井 忠夫 ,  定方 孝之
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992064123
Publication number (International publication number)：1993267149
Application date： Mar. 19, 1992
Publication date： Oct. 15, 1993
Summary：

【要約】【目的】 レジスト塗布装置等におけるレジスト送液装置の構造に関し、脈動が発生せず、且つ溶存窒素を連続的に脱気することが可能なレジスト送液装置を提供することを目的とする。【構成】 圧気導入口1aと送液口1bとを備えたレジスト容器1と、レジスト容器1からユースポイントに至る送液路2と、送液路2中に挿入する脱気手段3及びフィルタ4等で構成する。レジスト容器1内への窒素圧気の導入によりレジストを圧送する。脱気手段3はメンブレンチューブ3aとこれを包囲する真空容器3bからなり、メンブレンチューブ3aを通過するレジストから溶存窒素を連続的に脱気する。

Claim (excerpt)：

圧気導入口(1a)と送液口(1b)とを備えたレジスト容器(1) と該レジスト容器(1) からユースポイントに至る送液路(2) とを有し、該送液路(2) はメンブレンチューブ(3a)と該メンブレンチューブ(3a)を包囲する真空容器(3b)からなる脱気手段(3) を備えており、該レジスト容器(1) 内への圧気の導入によりレジストを圧送し、送液中のレジストから該脱気手段(3) が溶存ガスを連続的に脱気するように構成したことを特徴とするレジスト送液装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 501