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J-GLOBAL ID：200903031287744780

研磨剤の製造方法

Inventor： 加藤 寛 ,  林 和彦 ,  河野 博之
Applicant, Patent owner： 株式会社トクヤマ
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996100537
Publication number (International publication number)：1997286974
Application date： Apr. 22, 1996
Publication date： Nov. 04, 1997
Summary：

【要約】【課題】 研磨速度が向上されたシリカの水分散液よりなる研磨剤を提供する。【解決手段】 シリカ粒子を分散したケイ酸アルカリ水溶液を、該シリカ粒子の存在下に、ケイ酸アルカリが過飽和となる状態を経由して調製する。シリカとしては、乾式シリカが、ケイ酸アルカリとしてはケイ酸カリウムが好適に使用できる。

Claim (excerpt)：

シリカ粒子を分散したケイ酸アルカリ水溶液を、該シリカ粒子の存在下に、ケイ酸アルカリが過飽和となる状態を経由して調製することを特徴とする研磨剤の製造方法。

IPC (2)：

C09K 3/14 550 ,  C01B 33/14

FI (2)：

C09K 3/14 550 D ,  C01B 33/14