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J-GLOBAL ID：200903031325437080

感光性組成物、それを用いたレジストパターンの形成方法およびその剥離方法

Inventor： 小菅 眞樹 ,  神保 秀之
Applicant, Patent owner： 沖電気工業株式会社
Agent (1)： 大垣 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995147671
Publication number (International publication number)：1997005999
Application date： Jun. 14, 1995
Publication date： Jan. 10, 1997
Summary：

【要約】【目的】 水性剥離が容易なレジストパターンの形成に用いられる感光性組成物、それを用いたレジストパターンの形成方法およびその剥離方法を提供すること。【構成】 分子性化合物と酸発生剤とから成る感光性組成物の膜13を基板11上に形成する。この場合、分子性化合物として、4,4’-ビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホンt-ブトキシカルボニルおよび4,4’- (ヘキサフロロイソプロピリデン)ジフェノールt-ブトキシカルボニルを用いる。そして、感光性組成物の膜13の除去したい部分を選択的に電子線露光した後、露光済みの膜13aをアルカリ性水溶液を用いて現像して、レジストパターン13bを得る。さらに、以上のようにして形成したレジストパターン13bを剥離する場合には、先ず、レジストパターン13bが形成されている試料を加熱処理し、その後、加熱処理の済んだ試料に対してアルカリ水溶液を接触させる。

Claim (excerpt)：

ヒドロキシル基の一部または全部が官能基により保護されている分子性化合物の群から選ばれる一種の分子性化合物または二種以上の分子性化合物の混合物と酸発生剤とから成る感光性組成物であって、前記官能基は、前記酸発生剤から発生する酸の作用によって前記官能基による前記ヒドロキシル基の保護が解除する性質を有していることを特徴とする感光性組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 572 B