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J-GLOBAL ID：200903031326543495

位置検出装置及び該装置を用いた位置検出方法

Inventor： 中村 綾子 ,  中川 正弘 ,  福井 達雄
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 井上 義雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998195128
Publication number (International publication number)：2000021738
Application date： Jun. 26, 1998
Publication date： Jan. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】 光学系の収差、製造誤差等に起因する位置ずれ情報に基づいて検出されたパターン位置を補正し、高精度にパターン位置を検出できる装置及び方法を提供すること。【解決手段】 所定のパターンを有する被測定基板202を照明する照明系101、103、105、201と、前記被測定基板からの光を集光して前記パターン像を形成する結像光学系201、205、251、259と、前記パターン像を光電的に検出する光電検出部260と、前記光電検出部からの出力に基づいて前記パターンの位置を検出する位置検出系242と、前記光電検出部の検出視野内での前記パターン像の位置に依存して生ずる位置ずれ情報を記憶する記憶系Mと、前記位置ずれ情報に基づいて、前記パターンの位置情報を補正する補正系Cとを有する。

Claim (excerpt)：

所定のパターンを有する被測定基板を照明する照明系と、前記被測定基板からの光を集光して前記パターン像を形成する結像光学系と、前記パターン像を光電的に検出する光電検出部と、前記光電検出部からの出力に基づいて前記パターンの位置を検出する位置検出系と、前記光電検出部の検出視野内での前記パターン像の位置に依存して生ずる位置ずれ情報を記憶する記憶系と、前記位置ずれ情報に基づいて、前記パターンの位置情報を補正する補正系とを有することを特徴とする位置検出装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (5)：

H01L 21/30 525 E ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 525 W

F-Term (10)：

5F046BA03 ,  5F046CC03 ,  5F046CC16 ,  5F046EB01 ,  5F046EB03 ,  5F046ED01 ,  5F046FA09 ,  5F046FB04 ,  5F046FC03 ,  5F046FC04