Pat

J-GLOBAL ID：200903031375821077

スプレー溶射被膜生成プロセスの監視及び制御方法

Inventor： カール-ヘルマン フリーゼ ,  ペーター ヤンズィング ,  ハリ ブラウン ,  ヴァルター バウアー ,  マルク ヴェラー ,  トーマス カンツ
Applicant, Patent owner： ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
Agent (1)： 矢野 敏雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996233223
Publication number (International publication number)：1997111435
Application date： Sep. 03, 1996
Publication date： Apr. 28, 1997
Summary：

【要約】【目的】 従来技術の欠点を克服し、所望の(所定の)輸送コーティングされる被膜物質量ないし所望の膜厚及び被膜(被覆)さるべき面に亘っての膜厚分布を以ての被膜生成を可能にすること【構成】 被膜材として高温に加熱される無機粒子を用いてサブストレート(基板)の表面への被覆生成を行うためのスプレー溶射被膜生成プロセスの監視及び制御方法において、当該のスプレー溶射被膜生成のプロセス期間中輸送コーティングされる被膜物質量ないし膜厚に対する特性量として基板(サブストレート)の表面温度を測定し、設定値からの偏差のある場合、被膜物質量ないし膜厚に対して規定的なプロセスパラメータを変化させること。

Claim (excerpt)：

被膜(被覆)材として高温に加熱される無機粒子を用いてサブストレート(基板)の表面へのスプレー溶射被膜生成を行うためのスプレー溶射被膜生成プロセスの監視及び制御方法において、当該のスプレー溶射被膜生成プロセス(過程)中、輸送コーティングされる被膜物質量ないし膜厚に対する特性量として基板(サブストレート)の表面温度を測定し、設定値からの偏差のある場合、被膜物質量ないし膜厚に対して規定的なプロセスパラメータを変化させることを特徴とするスプレー溶射被膜生成プロセスの監視及び制御方法。