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J-GLOBAL ID:200903031377188304

光ディスク及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石川 泰男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995014657
Publication number (International publication number):1995334866
Application date: Jan. 31, 1995
Publication date: Dec. 22, 1995
Summary:
【要約】【目的】 生産工程における光透過性基板の機械的特性の劣化やドライ光硬化性フィルム中の気泡残存がなく、生産性と品質安定性に優れた光ディスク、高記録密度と高転送レートを有する光ディスク、及びこれらの光ディスクを簡易な設備で効率良く製造できる方法を提供する【構成】 光透過性基板1上に、室温・未硬化状態での粘度が3500〜400000ポイズで且つ未硬化状態での厚さが5〜200μmである未硬化状態のドライ光硬化性フィルム2を積層し、室温下、このフィルム2にピット・グルーブ5を加圧成形し、紫外線で硬化させた後、反射膜又は記録膜3を順次積層して光ディスクとする。また、光透過性基板1とドライ光硬化性フィルム2の間に、さらにピット・グルーブ5aと半透光性の反射膜又は記録膜3aを付加する。
Claim (excerpt):
(1)少なくとも光透過性基板、前記光透過性基板上に積層された透光性のドライ光硬化性フィルム、及び前記ドライ光硬化性フィルム上に積層された反射膜又は記録膜からなり、(2)前記ドライ光硬化性フィルムは室温・未硬化状態での粘度が3,500〜400,000ポイズであるとともに未硬化状態での厚さが5〜200μmであり、(3)前記ドライ光硬化性フィルムの反射膜又は記録膜側表面には情報信号を担持するピット又はグルーブが形成されていることを特徴とする光ディスク。
IPC (5):
G11B 7/24 538 ,  G11B 7/24 516 ,  B29C 59/02 ,  B29D 17/00 ,  G11B 7/26 531

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