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J-GLOBAL ID：200903031383432020

電子ビーム露光装置

Inventor： 小笠原 宗博 ,  高松 潤 ,  杉原 和佳
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994044180
Publication number (International publication number)：1995254539
Application date： Mar. 15, 1994
Publication date： Oct. 03, 1995
Summary：

【要約】【目的】 長時間の安定な動作が可能でかつ縮小転写でも明瞭なイメージが得られる電子ビーム露光装置を提供すること。【構成】 光の照射により光電子を放出する光電マスク30が収容される電子源室20と、電子源室20に隣接して設けられ、光電マスク30と対向するように被露光基板13が収容される露光室10と、光電マスク30と対向配置され、電子源室20と露光室10とを真空的に隔絶する導電体膜11と、光電マスク30と導電体膜11との間に加速電界を印加する高電圧電源23とを備えた電子ビーム露光装置において、光電マスク30から放出され導電体膜11を透過した電子を被露光基板13上に結像照射する電子レンズ14を設けると共に、この電子レンズ14によって形成されるクロスオーバ位置に、導電体膜11から所定の散乱角以上に散乱された電子を遮るアパーチャ板15を設けたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

光の照射により光電子を放出する光電マスクが収容される電子源室と、この電子源室に隣接して設けられ、前記光電マスクと対向するように被露光基板が収容される露光室と、前記光電マスクと対向配置され、前記電子源室と露光室とを真空的に隔絶する導電体膜と、前記光電マスクと導電体膜との間に加速電界を印加する手段と、前記光電マスクから放出され前記導電体膜を透過した電子を前記被露光基板上に結像照射する電子レンズと、この電子レンズによって形成されるクロスオーバ位置に設けられ、前記導電体膜から所定の散乱角以上に散乱された電子を遮るアパーチャ板とを具備してなることを特徴とする電子ビーム露光装置。