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J-GLOBAL ID：200903031400185598
位相シフトフォトマスクの製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
韮澤 弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993186058
Publication number (International publication number)：1995043885
Application date： Jul. 28, 1993
Publication date： Feb. 14, 1995
Summary：
【要約】【目的】 透過型位相シフトフォトマスクおいて、寸法精度よく、欠陥の少ない製造方法。【構成】 透明基板4上に隣接する2つに透明領域を有する透過型位相シフトフォトマスク12の製造方法において、透明基板4上に金属あるいは金属化合物の膜5が形成され、その上にレジスト6が塗布されたブランクを用い、レジストパターン8を形成後、そのレジストパターン8をマスクにして金属あるいは金属化合物の膜5をドライエッチングする工程と、レジストパターン8及び金属あるいは金属化合物のパターン10をマスクにして透明基板4をドライエッチングする工程とを含む。
Claim (excerpt)：
透明基板上に隣接する2つの透明領域を有する透過型位相シフトフォトマスクの製造方法において、透明基板上に金属あるいは金属化合物の膜が形成され、その上にレジストが塗布されたブランクを用い、レジストパターンを形成後、そのレジストパターンをマスクにして前記金属あるいは金属化合物の膜をドライエッチングする工程と、レジストパターン及び金属あるいは金属化合物のパターンをマスクにして前記透明基板をドライエッチングする工程とを含むことを特徴とする位相シフトフォトマスクの製造方法。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (1)
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