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J-GLOBAL ID：200903031423303539
膜厚測定方法及びその装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
内原 晋
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991248659
Publication number (International publication number)：1993090371
Application date： Sep. 27, 1991
Publication date： Apr. 09, 1993
Summary：
【要約】【目的】レジスト塗布後の放置時間を待たずに安定した状態の膜厚が測定出来る。【構成】時間によってレジストの溶剤が蒸発して変化する膜厚経時変化データをあらかじめ入力する入力部6と、測定時のデータと前記膜厚経時変化データとから膜厚を算出するデータ解析部5とを設け、溶剤が完全に蒸発したときのレジストの膜厚を出力部7より出力する。
Claim (excerpt)：
溶剤の蒸発によるレジスト膜の膜厚経時変化データをあらかじめ入力する工程と、レジスト膜に光を照射し、反射する分光強度を測定する工程と、波長毎の分光強度により前記レジスト膜の膜厚を求める工程と、この求められた膜厚データと前記膜厚経時変化データとにより前記溶剤の全てが蒸発したときの前記レジスト膜の膜厚を算出する工程とを含んでいることを特徴とする膜厚測定方法。
IPC (2)：
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