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J-GLOBAL ID：200903031426787740

逆方向治療計画法

Inventor： ヴィルケンス,ヤン ,  エールフク,ウーヴェ
Applicant, Patent owner： ドイチェス クレブスフォルシュングスツェントルム シュティフトゥング デス エッフェントリッヒェンレヒツ
Agent (6)： 大野 聖二 ,  森田 耕司 ,  田中 玲子 ,  松任谷 優子 ,  北野 健 ,  伊藤 奈月
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2008553731
Publication number (International publication number)：2009525797
Application date： Feb. 02, 2007
Publication date： Jul. 16, 2009
Summary：

本発明は、少なくとも2門の照射場を使用して生体系内のターゲットを治療する強度変調粒子線治療のための放射線治療装置と逆方向治療計画法に関する。その少なくとも2門の照射場は、それぞれ複数のブラッグ・ピークを含み、定義された数のビーム・スポットjを異なる方向から一定の重みwjを付けてターゲット内部に位置決めするように計画される。この逆方向治療計画法では、生物学的効果εiに基づいて目的関数を最小化することによって、ターゲット内に規定された生物学的効果を発生させるために、少なくとも2門の照射場のビーム・スポットの重みwjを同時に最適化する。この生物学的効果εは、2つのパラメータαおよびβによってターゲット内の生物学的効果を記述する線形2次モデル(ここでε=αD+βD2、Dは照射線量を表す)で扱われ、ターゲット(αiおよびβi)のボクセルiごとの2つのパラメータαおよびβは、ボクセルi内の全照射線量Diに寄与するビーム・スポットj全てに関連付けられた、αi,j成分および√βi,j成分の照射線量平均した平均値として計算される。

Claim (excerpt)：

少なくとも2門の照射を使用して生体系内部のターゲットを治療する強度変調粒子線治療のための逆方向治療計画法において、前記少なくとも2門の照射場が、それぞれ複数のブラッグ・ピークを含み、定義された数のビーム・スポットjを異なる方向から一定の重みwjを付けて前記ターゲット内部に位置決めするように計画される逆方向治療計画法であって、前記逆方向治療計画法が、生物学的効果εに基づいて目的関数を最小化することによって、前記ターゲット内に規定された生物学的効果を発生させるために、前記少なくとも2門の照射場の前記ビーム・スポットの前記重みwjを同時に最適化し、前記生物学的効果εが、前記ターゲット内の前記生物学的効果を2つのパラメータαおよびβで記述する線形2次モデルで扱われ、ここでε=αD+βD2であり、Dは照射線量を表し、αiおよびβiという前記ターゲットのボクセルiごとの前記2つのパラメータαおよびβが、前記ボクセルi内の全照射線量Diに寄与するビーム・スポットj全てに関連付けられた、αi,j成分および√βi,j成分の照射線量平均した平均値として計算されることを特徴とする、逆方向治療計画法。

IPC (1)：

A61N 5/10

FI (2)：

A61N5/10 P ,  A61N5/10 H

F-Term (7)：

4C082AC04 ,  4C082AC05 ,  4C082AE01 ,  4C082AE10 ,  4C082AN02 ,  4C082AN10 ,  4C082AP03