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J-GLOBAL ID：200903031438324320

磁気抵抗効果型再生ヘッドおよび磁気記録再生装置

Inventor： 藤本 和久 ,  上坂 保太郎 ,  鈴木 香 ,  相原 誠 ,  吉田 和悦 ,  福井 宏
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994260008
Publication number (International publication number)：1996124122
Application date： Oct. 25, 1994
Publication date： May. 17, 1996
Summary：

【要約】【構成】基板5上に、厚さ2μmの下部シールド膜(NiFe膜)10,厚さ0.2μm の磁気ギャップ形成用絶縁膜(Al2O3膜)20,厚さ20nmの軟磁性膜(NiFeNb膜)30,厚さ15nmの非磁性導電膜(Ta膜)40,厚さ20nmの磁気抵抗効果膜(NiFe膜)50を積層した後、磁気抵抗効果膜の高さを決めるためのパターニングを行う。次に、有機レジスト膜を積層した後、所望の形状にパターニングを行う。【効果】磁気抵抗効果型再生ヘッドにおける再生出力を増大させることが可能となる。

Claim (excerpt)：

基板上に積層して設けられた横バイアス印加用の軟磁性膜,非磁性導電膜,磁気抵抗効果膜,前記磁気抵抗効果膜の両端に設けられた縦バイアス印加用の一対の永久磁石膜,前記永久磁石膜上に設けられた一対の電極を備えた磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、前記磁気抵抗効果膜における媒体対向面と反対側の面間の距離が、前記磁気抵抗効果膜に接した電極の媒体対向面と反対側の面間の距離よりも長いことを特徴とする磁気抵抗効果再生ヘッド。