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J-GLOBAL ID：200903031484161222

蛍光X線分析装置

Inventor： 西萩 一夫 ,  寺田 慎一
Applicant, Patent owner： 株式会社テクノス研究所
Agent (1)： 西教 圭一郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994256999
Publication number (International publication number)：1996122281
Application date： Oct. 21, 1994
Publication date： May. 17, 1996
Summary：

【要約】【目的】 励起X線としてW-Lβ1線用いた蛍光分析では検出が困難であった微量元素について、検出限界を向上できる蛍光X線分析装置を提供する。【構成】 蛍光X線分析装置1は、W(タングステン)材料で構成された回転対陰極11を備えるX線発生器10と、X線発生器10から発生するWの特性X線3からW-Mα特性X線4を分離するための分光結晶13およびコリメータ14と、特性X線4がシリコンウエハ2に入射して、シリコンウエハ2から発生する蛍光X線5を検出するX線検出器20と、前置増幅器21、比例増幅器22、波高分析器23およびデータ処理器24などから構成されている。

Claim (excerpt)：

W(タングステン)材料で構成された陽極を有するX線発生手段と、前記X線発生手段が発生するX線のうち、W-Mα特性X線を分離するためのX線回折手段と、前記X線回折手段で分離された特性X線をシリコンウエハに照射して、シリコンウエハの汚染物質から発生する蛍光X線を検出するためのX線検出手段とを備えることを特徴とする蛍光X線分析装置。