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J-GLOBAL ID：200903031487176000

ハイブリッドシリカゲルの製造方法

Inventor： 松田 麗子 ,  山口 真男 ,  岡本 秀則
Applicant, Patent owner： 徳山曹達株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991323226
Publication number (International publication number)：1993156016
Application date： Dec. 06, 1991
Publication date： Jun. 22, 1993
Summary：

【要約】【構成】 テトラエトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のオルガノアルコキシシラン、及び分子内にアルコキシシリル基を有するフォトクロミック化合物を反応させて、共加水分解、縮合によりフォトクロミックハイブリッドシリカゲルを製造する。【効果】 オルガノアルコキシシランを併用することにより、作製されたシリカゲル中の酸点が減少、あるいは酸強度が低減される。この結果、シリカゲル中に化学的に固定されたフォトクロミック化合物部の劣化が防止でき、光耐久性が向上する。又、フォトクロミック化合物部がシリカゲルに化学的に結合しているのでフォトクロミック化合物が溶媒中で溶出することがない。更にテトラアルコキシシランを原料のひとつに用いているため、強度、耐溶剤性、耐熱性にも秀れる。

Claim (excerpt)：

一般式(1)で表されるテトラアルコキシシラン、Si(OR1 )4 (1)(式中、R1 はアルキル基を示す)一般式(2)で表されるオルガノアルコキシシラン、R2 n Si(OR3 )4-n (2)(式中、R2 はアルキル基、アルケニル基、またはフェニル基を、R3 はアルキル基を、nは1または2の整数を示す)及びアルコキシシリル基を有するフォトクロミック化合物を反応させることを特徴とするフォトクロミックハイブリッドシリカゲルの製造方法。

IPC (7)：

C08G 77/00 NUB ,  C01B 33/152 ,  C03B 8/02 ,  C03C 3/06 ,  C03C 4/06 ,  C08G 77/26 NUJ ,  C09K 9/02