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J-GLOBAL ID：200903031487379920

パターン投影装置

Inventor： 松原 俊郎
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 矢葺 知之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999096068
Publication number (International publication number)：2000292133
Application date： Apr. 02, 1999
Publication date： Oct. 20, 2000
Summary：

【要約】【課題】 表面の光学的特性が異なる複数の製品を対象にする形状計測装置の明暗パターン投影装置において、撮像画像の明るさムラを除去するための投影光量分布調節が、計測対象が変わった時に容易に行えるようにする。【解決手段】 パターン投影装置内部に、複数の種類の透過率分布フィルター3を設け、用いる透過率分布フィルターをそれらの中から一つ選択し、投影パターン印刷面5よりも光源1に近い位置に該フィルターを設置する切り替え機構を設ける。

Claim (excerpt)：

物体表面に明暗パターンを投影し、投影された明暗パターンを撮像して物体の形状を測定するためのパターン投影装置において、複数の種類の透過率分布フィルターを有し、用いる透過率分布フィルターをそれらの中から一つ選択し投影パターン印刷面よりも光源に近い位置に該フィルターを設置する切り替え機構を設けたことを特徴とするパターン投影装置。

F-Term (9)：

2F065AA53 ,  2F065DD00 ,  2F065DD13 ,  2F065FF04 ,  2F065HH06 ,  2F065HH07 ,  2F065LL25 ,  2F065NN02 ,  2F065UU01