Pat

J-GLOBAL ID：200903031492405661

プラズマ発生装置

Inventor： 豊田 一行
Applicant, Patent owner： 国際電気株式会社
Agent (1)： 三好 祥二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993187097
Publication number (International publication number)：1995022322
Application date： Jun. 30, 1993
Publication date： Jan. 24, 1995
Summary：

【要約】【目的】反応室に発生されるプラズマの密度、密度分布の変更を容易に実現できるプラズマ発生装置を提供する。【構成】反応室3上部にプラズマ発生用コイル15を複数設け、該コイルに高周波電力を印加する様にし、複数のコイルの配置、巻き数、数、高周波電力の印加状態を適宜変更することで、プラズマの発生密度、密度分布を変更する。

Claim (excerpt)：

反応室上部にプラズマ発生用コイルを複数設け、該コイルに高周波電力を印加する様構成したことを特徴とするプラズマ発生装置。