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J-GLOBAL ID:200903031493228399

ノルボルネニル基含有シロキサン化合物の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004238212
Publication number (International publication number):2006056801
Application date: Aug. 18, 2004
Publication date: Mar. 02, 2006
Summary:
【解決手段】 一般式(1)又は(2) 【化1】〔Xは式(i)又は(ii)-SiR3 (i) 【化2】(Rはアルキル基、qは整数である。)で示される基であり、R1はアルキル基、アリール基、アラルキル基又はアルカリール基、QはX又はR1と同様の基であり、m,nは整数である。〕で表されるビニル基含有シロキサン化合物とシクロペンタジエンとを反応させることを特徴とする一般式(3)又は(4) 【化3】(X,R,R1,Q,m及びnは上記と同様。)で表されるノルボルネニル基含有シロキサン化合物の製造方法。【効果】 工程数が少なく、操作が簡便で、工業的規模で大量に入手可能かつ安価な原料を使用でき、高純度及び高収率であり、単位体積当たりの収量が高く、除去工程の導入や多大な廃棄費用が掛かる反応副生物の発生がない等の利点を有するノルボルネニル基含有シロキサン化合物の製造方法が提供される。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
下記一般式(1)又は(2)
IPC (2):
C07F 7/08 ,  C07F 7/21
FI (2):
C07F7/08 X ,  C07F7/21
F-Term (17):
4H049VN01 ,  4H049VP04 ,  4H049VP05 ,  4H049VP06 ,  4H049VQ02 ,  4H049VQ05 ,  4H049VQ06 ,  4H049VQ79 ,  4H049VQ85 ,  4H049VR22 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VR42 ,  4H049VS02 ,  4H049VS79 ,  4H049VS85 ,  4H049VU16
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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