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J-GLOBAL ID:200903031497007982

膜厚測定装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 市村 健夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992271215
Publication number (International publication number):1994094423
Application date: Sep. 14, 1992
Publication date: Apr. 05, 1994
Summary:
【要約】【目的】 暗電流による誤差を除去し、正確な分光強度を求め、薄膜の膜厚測定に用いる。【構成】 あらかじめ分光測定光を遮断した状態で、ラインセンサLの受光素子の一部に形成された遮光領域及び前記受光素子に発生する暗電流を所定の間隔で測定する。前記遮光領域での検出信号とラインセンサLの遮光領域外の検出信号との差分を記憶部Mで記憶する。分光強度曲線測定時に、該測定により得られる前記遮光領域の検出信号と、前記記憶手段に記憶された前記差分とを用いて、前記ラインセンサの各受光素子の暗電流信号を算出する。さらにラインセンサLの受光素子の光電変換により得られた電気信号から前記暗電流信号を差し引き、所定の分光強度曲線を算出する。
Claim (excerpt):
あらかじめ分光測定光を遮断した状態で、ラインセンサの受光素子の一部に形成された遮光領域及び前記受光素子に発生する暗電流を所定の間隔で測定し、前記遮光領域での検出信号と前記ラインセンサの前記遮光領域外の検出信号との差分を記憶手段に記憶しておき、分光強度曲線測定時に、該測定により得られる前記遮光領域の検出信号と、前記記憶手段に記憶された前記差分とを用いて、前記ラインセンサの各受光素子の暗電流信号を算出し、前記ラインセンサの受光素子の光電変換により得られた電気信号から前記暗電流信号を差し引き、所定の分光強度曲線を算出するようにしたことを特徴とする膜厚測定装置。

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