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J-GLOBAL ID：200903031505121986

水処理装置

Inventor： 芳賀 鉄郎 ,  久保田 昌良 ,  ▲かげ▼山 晃治 ,  渡辺 昭二 ,  中沢 正光 ,  原 直樹
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995114237
Publication number (International publication number)：1996299973
Application date： May. 12, 1995
Publication date： Nov. 19, 1996
Summary：

【要約】【目的】被処理水へのオゾン吸収効率を常時安定に維持して、処理水質の向上を図る。【構成】被処理水が導入されるオゾン接触池8と、このオゾン接触池内に配設された散気管10を介してオゾンガスを供給するオゾン発生装置23を備え、被処理水への設定オゾン注入率に応じてオゾン発生装置から被処理水への供給オゾンガス流量を制御する水処理装置において、被処理水の流量と設定気液比を乗じて被処理水への全供給ガス流量を求め、さらに、全供給ガス流量と供給オゾンガス流量との差分流量を求め、設定オゾン注入率の高低に応じて差分流量に対応したガスを供給オゾンガスに導入混合するようにした。【効果】処理水質の向上。

Claim (excerpt)：

被処理水が導入されるオゾン接触池と、このオゾン接触池内に配設された散気管を介してオゾンガスを供給するオゾン発生装置を備え、前記被処理水への設定オゾン注入率に応じて前記オゾン発生装置から前記被処理水への供給オゾンガス流量を制御する水処理装置において、前記被処理水の流量と設定気液比を乗じて前記被処理水への全供給ガス流量を求め、さらに、前記全供給ガス流量と前記供給オゾンガス流量との差分流量を求め、前記設定オゾン注入率の高低に応じて前記差分流量に対応したガスを前記オゾン発生装置からの供給オゾンガスに導入混合することを特徴とする水処理装置。

IPC (3)：

C02F 1/78 ZAB ,  C01B 13/02 ,  C01B 13/10

FI (3)：

C02F 1/78 ZAB ,  C01B 13/02 A ,  C01B 13/10 D