レジスト組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福沢俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993032490
Publication number (International publication number)：1994230573
Application date： Jan. 29, 1993
Publication date： Aug. 19, 1994
Summary：

【要約】【目的】解像度およびパターンのエッジ形状に優れ、高アスペクト比を達成できるをとともに、現像性、基板との密着性等も良好で、高密度実装に対応可能な優れた特性バランスを有し、かつ環境等にも問題がない水あるいは希アルカリ水により現像可能である新規レジスト組成物を提供する。【構成】レジスト組成物は、(1)カルボキシル基含有架橋粒子、(2)脂肪族アミノ基含有化合物および/またはN,N-ジ置換(メタ)アクリルアミド、(3)他の光重合性の単量体および/またはオリゴマー並びに(4)光重合開始剤を含有する。

Claim (excerpt)：

(1)カルボキシル基含有架橋粒子100重量部、(2)脂肪族アミノ基含有化合物および/またはN,N-ジ置換(メタ)アクリルアミド5〜100重量部、(3)他の光重合性の単量体および/またはオリゴマー5〜200重量部並びに(4)光重合開始剤を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/027 , G03F 7/028 , G03F 7/033 , H01L 21/027 , H05K 3/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

特開平3-228060
特開昭63-008648
特開昭63-017903

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